一文通PECVD工序工艺
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一文通PECVD工序工艺

PECVD目的在硅片表面沉积一层氮化硅减反射膜,以增加入射在硅片上的光的透射,减少反射,氢原子搀杂在氮化硅中附加了氢的钝化作用。镀膜原理光照射在硅片表面时,反射会使光损失约三分之一。如果在硅表面有一层或多

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