资讯 一文通PECVD工序工艺 PECVD目的在硅片表面沉积一层氮化硅减反射膜,以增加入射在硅片上的光的透射,减少反射,氢原子搀杂在氮化硅中附加了氢的钝化作用。镀膜原理光照射在硅片表面时,反射会使光损失约三分之一。如果在硅表面有一层或多 11-23 / 小年青